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漿料粒徑對CMP工藝缺陷水平的影響通過使用兩種粒度測量儀器，對較常用的化學(xué)機械拋光（CMP）氧化物漿料（CabotSC-112）的漿料粒度進行了分析。其中一種儀器是PSS粒度儀公司的Nicomp370，用于監(jiān)測平均粒徑為100nm左右的漿料...

速溶咖啡的分散性，溶解性以及分離過程的快速表征速溶飲料廣義是指便于攜帶、食用方便的飲料。常以咖啡、可可、牛奶等為原料，經(jīng)浸提、過濾、濃縮、真空干燥等工序制成。能保持原料的色、香、味，沖飲時能迅速溶解于熱水或冰水中。常見產(chǎn)品有速溶咖啡，奶粉，...

單顆粒光學(xué)傳感(SPOS)技術(shù)，成功將光消減(也稱之為“光阻法”)和光散射兩種物理作用進行了結(jié)合，利用光消減可獲得較大的動態(tài)粒徑范圍，通過光散射可增加對小粒子的靈敏度，因此，SPOS技術(shù)具有非常高的精度和分辨率。AccuSizer780A7...

CMP研磨液中顆粒的評價技術(shù)GeanneVasiloulos,ZhenwuLin,KennethAdrian在化學(xué)機械拋光過程中，各種研磨液用于晶圓平坦化處理。這些研磨液中顆粒濃度可達＞1015顆/ml。除了用于拋光的顆粒外，研磨液中還含有...

不溶性微粒系指可流動的、隨機存在于靜脈注射用藥物中不溶于水的微小顆粒。不溶性微粒是外來物質(zhì)，粒徑一般在2-50μm之間，肉眼難以看見，主要包括鈣、硅等元機微粒，或是炭黑、纖維、細菌、霉菌、芽泡和結(jié)晶體、玻稍屑，以及塑料微粒、橡膠微粒等，是由...

Zeta電位是納米材料的一種重要表征參數(shù)。很多微納米產(chǎn)品都需要表征其穩(wěn)定性，粒度大小、zeta電位、ph值、溫度、產(chǎn)品配方等會影響樣品穩(wěn)定性，而zeta電位是樣品穩(wěn)定性比較直觀的一個參數(shù)。現(xiàn)代儀器可以通過簡便的手段快速地測得。常見的測試Ze...

均質(zhì)機的作用主要有：提高產(chǎn)品的均勻度和穩(wěn)定性;增加保質(zhì)期，減少反應(yīng)時間從而節(jié)省催化劑或添加劑，改變產(chǎn)品的稠度改善產(chǎn)品的口味和色澤等等，均質(zhì)機為無數(shù)工藝流程的革新以及各種新產(chǎn)品的開發(fā)應(yīng)用提供了簡便而卓有成效的途徑。典型的高壓微射流納米均質(zhì)機應(yīng)...

AN-754ISO4406污染度等級應(yīng)用指南必須監(jiān)控各種油（液壓油，變速箱和其他流體動力系統(tǒng)）中的顆粒污染，以確保其正常工作并避免損壞有價值的設(shè)備。通常使用遵循ISO4406標準報告格式的液體顆粒計數(shù)器（例如PSSAccuSizer）進行這...